Компанія Intel почала використовувати передові літографічні установки ASML з високою числовою апертурою (High NA) для виробництва певних шарів своїх флагманських процесорів Panther Lake.
Про це повідомляє Reuters.
Основний процес створення чипів базується на технології 18A зі стандартним EUV-обладнанням, а нові машини дозволяють компанії накопичувати досвід у роботі зі складними системами.
Використання обладнання вартістю близько $400 млн, що вдвічі дорожче за стандартну машину EUV, є стратегічним кроком для майбутньої мініатюризації мікросхем.
Цей інструмент допомагає Intel і ASML збирати дані й оптимізувати виробничі процеси.
Початок застосування технології став результатом досліджень, які Intel проводила на своєму майданчику в Орегоні з 2024 року.
Дані, одержані в реальних умовах випуску процесорів, стануть фундаментом для масового впровадження цих методів.
Бекграунд. Раніше Mind повідомляв, що Nvidia розширює коло китайських клієнтів: США видали нові ліцензії на продаж чипів H200. Нові дозволи відкривають доступ до найсучасніших обчислювальних ресурсів для навчання нейромереж.